簡要描述:大容量恒溫水槽M55P,工作溫度范圍內(nèi)的過溫安全保護功能,保護實驗安全;具有斷電記憶功能;具有機械限溫和超溫保護,雙重保護,使用更放心;適合內(nèi)部和外循環(huán)應用,應用范圍廣; 相關配件采用國際品牌,性能穩(wěn)定且壽命長;全封閉磁力泵/離心泵循環(huán)攪拌,溫場均勻;具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等,安全防護更全面
品牌 | 吉米諾 | 加工定制 | 是 |
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類型 | 立式 | 適用物料 | 多種可用 |
操作方式 | 連續(xù)式 | 干燥介質(zhì) | 其他 |
操作壓力 | 其他 |
大容量恒溫水槽M55P
產(chǎn)品特點
> 采用PID溫度控制技術,恒溫波動度±0.05℃;
> 加熱管采用不銹鋼材質(zhì),易清洗;
> 細膩的隔熱和保溫設計,確保設備在+95℃運行時,儀器表面溫度不會太高,保證操作安全;
> 低噪音設計,免除實驗室噪音難題;
> 設備操作簡單,自動和手動2中模式,操作更方便;
> 工作溫度范圍內(nèi)的過溫安全保護功能,保護實驗安全;
> 具有斷電記憶功能;
> 具有機械限溫和超溫保護,雙重保護,使用更放心;
> 適合內(nèi)部和外循環(huán)應用,應用范圍廣;
> 相關配件采用國際品牌,性能穩(wěn)定且壽命長;
> 全封閉磁力泵/離心泵循環(huán)攪拌,溫場均勻;
> 具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等,安全防護更全面;
應用范圍
> 升溫恒溫控制系統(tǒng)
> 材料低溫老化測試
> 化學設備熱源的溫度控制
> 半導體設備的溫度控制
> 高壓反應釜動態(tài)溫度控制
> 雙層玻璃反應釜動態(tài)溫度控制
> 雙層反應釜動態(tài)溫度控制
> 微通道反應器溫度控制
> 蒸餾系統(tǒng)控溫
> 物性測試及化學分析
可選附件
> 可選配RS485通訊接口;
> 可選配嵌入式不銹鋼蓋,用于更緊湊的空間需求;
> 可選配SUS304液槽隔板,用于浸入式實驗需求;
技術參數(shù)
大容量恒溫水槽M55P(RT+5℃~95℃,最高溫度100℃)
型號 | M55P |
控溫范圍 | RT+15℃~95℃ |
溫度波動度 | ±0.05℃ |
顯示精度 | 0. 01℃ / 0.1可調(diào) |
容積 | 55L |
液槽尺寸 | 360x400x400mm |
開口尺寸 | 340x380mm |
外形尺寸 | 480x620x910mm |
溫度控制 | PID程序 |
最大流量 | 75L/min |
最大壓力 | 2.0bar |
加熱功率 | 2.5/4KW |
電源 | 220V/380V/50Hz |
安全性能 | 數(shù)顯溫度校準,傳感器開路、短路保護和報警,雙重溫度保護,高低溫保護,低液位保護 |
備注:精密恒溫水槽所有技術參數(shù)均為標準配置參數(shù),涉及溫度波動度、壓力、流量、加熱功率等詳細技術參數(shù)也可以向相應銷售索取;若客戶對設備壓力、流量、外循環(huán)等特別要求或高精度恒溫控制,我公司可以根據(jù)實際的需求做非標定制化處理。
更多關于精密恒溫水槽/低溫恒溫槽的設備信息,可以訪問吉米諾網(wǎng)站。
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